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刻蝕機 ET12-XS2E2S1A

刻蝕機 ET12-XS2E2S1A

產(chǎn)品特點 1.利用位置、速度可控的擺臂噴灑化學(xué)液,可以有效的提高刻蝕均勻性;
2.分層式反應(yīng)腔體設(shè)計,可以在同一腔體中噴灑多種化學(xué)液,并能有效回收,節(jié)約化液;
3.疊層控制,占地面積小,最多可配置4個刻蝕單元。

產(chǎn)品應(yīng)用

應(yīng)用范圍:

化合物半導(dǎo)體、功率器件、MEMS、先進封裝、射頻集成電路。


產(chǎn)品參數(shù)

片盒數(shù)量
2CS&2LP
配置4 Etch unit
wafer 類型圓片
wafer 尺寸(mm)50-300
產(chǎn)能(WPH)90
化學(xué)藥液H2O2、強酸堿
襯底材料Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
適用工藝Wet Etch
干燥模式Spin Dry+N2 Dry


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